測定可能元素

H

最外殻準位～1sまで測定可能

He

Li

Be

最外殻準位～2sまで測定可能

B

C

N

O

F

Ne

Na

Mg

最外殻準位～3sまで測定可能

Al

Si

P

S

Cl

Ar

K

Ca

Sc

Ti

V

Cr

Mn

Fe

Co

Ni

Cu

Zn

Ga

Ge

As

Se

Br

Kr

Rb

Sr

Y

Zr

Nb

Mo

Tc

Ru

Rh

Pd

Ag

Cd

In

Sn

Sb

Te

I

Xe

Cs

Ba

La

Hf

Ta

W

Re

Os

Ir

Pt

Au

Hg

Ti

Pb

Bi

Po

At

Rn

Fr

Ra

Ac

Rf

Db

Sg

Bh

Hs

Mt

Ds

Rg

Cn

Uut

Fl

Uup

Lv

Uus

Uuo

La

Ce

Pr

Nd

Pm

Sm

Eu

Gd

Tb

Dy

Ho

Er

Tm

Yb

Lu

Ac

Th

Pa

U

Np

Pu

Am

Cm

Bk

Cf

Es

Em

Md

No

Lr

装置仕様

装置仕様

システム	ScientaOmicron社 HAXPES-Lab
アナライザ	ScientaOmicron社 EW4000
X線源	excillum社 MetalJet D2+ (Ga) ScientaOmicron社 XM1000 MKII(モノクロAl)
中和銃	PREVAC社 FS40A1
スパッタ	Ionoptika社 GCIB-10S (Arガスクラスターイオン銃)

装置性能

Ｘ線エネルギー	Ga (9251.74 eV) モノクロAl (1486.6 eV)
エネルギー分解能	～500 meV (Ga) ～300 meV (Al)
Ｘ線スポットサイズ	30 μm(V) × 45 μm(H) (カタログ値)
空間分解能	0.3 mm(V) × 0.6 mm(H)
測定範囲	0.3 mm(V) × 1.7 mm(H)

付属機器

試料ホルダー	Cu製専用試料ホルダー
トランスファーベッセル	嫌気試料用のトランスファーベッセル 搭載数7個
多試料用試料ホルダー	多試料測定用の試料ホルダー 幅 10mm × 縦 100mm × 10面
イオン銃	ロードロックチャンバーのイオン銃 Arスパッタによる前処理が可能
カーボンコーター	チャージアップ防止用にカーボンをコーティング可能
Osコーター	チャージアップ防止用にOsをコーティング可能
簡易蒸着装置	真空加熱蒸着
試料用デシケーター	測定試料の一時保管用

付属設備

付属設備を使用する場合は利用申請時に事前申請が必要です。

ユーザー滞在室	実験中のユーザー用滞在室 机、椅子、ロッカー、水道、ベッド（仮眠可能）
化学実験室	ドラフター、ヒーター、試料用冷蔵・冷凍庫、超音波洗浄機、ガラス器具